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HMDS真空烤箱的特點(diǎn)

2013年09月10日 15:30來(lái)源:上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司 >>進(jìn)入該公司展臺(tái)人氣:474


      HMDS真空烤箱的特點(diǎn)來(lái)源: 上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司HMDS真空烤箱的特點(diǎn)來(lái)源: 上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司一、HMDS真空烘箱技術(shù)參數(shù):

      電源電壓:AC220V±10%/50Hz±2%

      輸入功率:2400W

      控溫范圍:室溫+10℃-250℃

      溫度分辨率:0.1℃

      溫度波動(dòng)度:±0.5℃

      達(dá)到真空度:133Pa

      容積:90L

      工作室尺寸(mm):450*450*450(可選擇)

      載物托架:2塊

      二、HMDS真空烤箱的使用優(yōu)點(diǎn)

      1、JS-HMDS真空烤箱預(yù)處理性能更好,由于是在經(jīng)過(guò)數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更好的處理效果。

      2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

      3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。

      4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;

      5、更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。

      
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