廣州文明機(jī)電有限公司
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詳細(xì)摘要： 易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。冷卻保持時(shí)間長(zhǎng)，有效地抑制了熱損傷。
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詳細(xì)摘要： JMS-T100LP 液相色譜-飛行時(shí)間質(zhì)譜儀
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詳細(xì)摘要： JMS-S3000采用日本電子獨(dú)自研發(fā)的SpiralTOF模式離子光學(xué)系統(tǒng)，它創(chuàng)新的技術(shù)在學(xué)術(shù)界已廣為人知，其超高的質(zhì)量分辨率和質(zhì)量準(zhǔn)確度，于傳統(tǒng)的裝置。
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詳細(xì)摘要： JMS-MT3010HRGA采用的Multi-Turn技術(shù)，在只有20cm見(jiàn)方的質(zhì)量分析器內(nèi)，離子的最長(zhǎng)飛行距離高達(dá)200ｍ。
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詳細(xì)摘要： MS-800D UltraFOCUS™ 是進(jìn)行超低濃度分析的，采用高分辨選擇離子監(jiān)測(cè)模式（HRSIM）適合二惡英及相關(guān)化合物如:二惡英、多氯聯(lián)苯(P...
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詳細(xì)摘要： JMS-700高分辨質(zhì)譜儀全部采用電腦控制，離子源和各種參數(shù)具有自動(dòng)調(diào)諧功能，不僅是常規(guī)測(cè)試，利用高分辨測(cè)試等所有模式都能容易地獲得高質(zhì)量的分析結(jié)果。
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詳細(xì)摘要： 軟X射線分析譜儀(SXES :Soft X-Ray Emission Spectrometer)通過(guò)組合新開(kāi)發(fā)的衍射光柵和高靈敏度Ｘ射線CCD相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了的能量...
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詳細(xì)摘要： JSX-1000S型X射線熒光光譜儀采用觸控屏操作、提供更加簡(jiǎn)便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（FP法?檢量線法）、RoHS元素篩選功能等?！?利用豐富...
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詳細(xì)摘要： IB-19520CCP在加工過(guò)程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢...
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詳細(xì)摘要： 為了滿足市場(chǎng)多樣化的需求，IB-19530CP截面拋光儀采用多用途樣品臺(tái)，通過(guò)交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。
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詳細(xì)摘要： 通過(guò)高頻感應(yīng)加熱產(chǎn)生大約1萬(wàn)度的熱等離子體，經(jīng)過(guò)物理/化學(xué)反應(yīng)過(guò)程，能合成納米顆粒及厚膜(鍍膜)
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詳細(xì)摘要： JEBG系列大功率電子槍是用來(lái)在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜，還可應(yīng)用于電子束熔煉，用于高...
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詳細(xì)摘要： 以電子束為熱源使用各種熔解用坩堝，對(duì)高融點(diǎn)活性金屬進(jìn)行熔解/精煉、制備鑄錠的電子束熔煉爐。 適合研究開(kāi)發(fā)及少量生產(chǎn)、省空間設(shè)計(jì)的小型熔煉爐。 可按照用途選擇坩堝...
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詳細(xì)摘要： TEM斷層掃描系統(tǒng)采用算法的軟件，實(shí)現(xiàn)了從獲取連續(xù)傾斜圖像到三維重構(gòu)整個(gè)過(guò)程的自動(dòng)化。
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詳細(xì)摘要： JED-2300T AnalysisStation是以“圖像觀察和分析"為基本理念的TEM/EDS集成系統(tǒng)。在分析數(shù)據(jù)過(guò)程中，自動(dòng)采集電鏡主機(jī)的倍率、加速電壓等...
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詳細(xì)摘要： JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信...
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詳細(xì)摘要： 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過(guò)的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫(xiě)速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
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詳細(xì)摘要： JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為（計(jì)算值）2.1nm的電子束，簡(jiǎn)便地描畫(huà)出線寬在8nm以下（實(shí)際可達(dá)5nm）的圖形。 ...
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詳細(xì)摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和...
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詳細(xì)摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 zei的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精...
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